MBE-500 主要采用氬弧焊加工的圓柱形316不銹鋼腔體，腔體頂部法蘭尺寸為DN400CF，配置10個以上的蒸發(fā)源。系統(tǒng)預留多種法蘭口，安裝法蘭兼容RGA、RHEED、BFM等多種原位測量。模塊化設計，設備多功能性強，束流擋板瞬時可控，可實現(xiàn)2 inch高質量薄膜生長。
| ● 可靈活配置不同種類的蒸發(fā)源，可在襯底上進行高質量外延成長 | ● 應用范圍廣，兼容III-V族、氧化物、氮化物薄膜生長 | ● 可互聯(lián)Cluster傳樣系統(tǒng)，實現(xiàn)2 inch襯底托盤全自動傳遞 |
| ● 配備原位檢測系統(tǒng)，實時監(jiān)控生長狀態(tài) | ||
| MBE-500 | 模塊描述 | 配置參數(shù) | |
| 生長室 | 腔體 | 腔體材料 | SS316 |
| 腔體尺寸 | 400mm I.D | ||
| 烘烤溫度 | Max.200℃ | ||
| 本底真空 | < 5×10-10 mbar | ||
| 抽氣系統(tǒng) | 700L/s分子泵+10m3/h機械泵 | ||
| 真空測量系統(tǒng) | 離子規(guī)+Pirani規(guī) | ||
| 液氮冷屏 | 選配 | ||
| 離子泵 | 選配 | ||
| 低溫泵 | 選配 | ||
| 樣品架 | 樣品尺寸 | 2 inch | |
| 襯底加熱方式 | 輻射加熱 | ||
| 襯底加熱器溫度 | 室溫-1200K | ||
| 電子束加熱 | 選配 | ||
| 直流加熱 | 選配 | ||
| 液氮制冷模塊 | 選配 | ||
| 部件 | 蒸發(fā)源配置 | 6xDN40CF, 4xDN63CF, 1xDN100CF | |
| 獨立的蒸發(fā)源擋板 | 氣動驅動 | ||
| BFM | 標配 | ||
| RHEED | 15KeV-30KeV | ||
| Ion Source | 選配 | ||
| RGA | 選配 | ||
快速進樣室 | 腔體 | 腔體材料 | SS316 |
| 烘烤溫度 | Max.200℃ | ||
| 本底真空 | <5×10-8 mbar | ||
| 抽氣系統(tǒng) | 80L/s分子泵+10m3/h機械泵 | ||
| 真空測量系統(tǒng) | 全量程規(guī) | ||
| 部件 | 樣品停放臺 | 3工位 | |
| 系統(tǒng)集成及控制 | GUIDE軟件 | 標配 | |
| 烘烤系統(tǒng) | 標配 | ||
| 系統(tǒng)支架 | 標配 | ||
| 污染物回收系統(tǒng) | 選配 | ||
| 真空照明系統(tǒng) | 選配 | ||
| 等離子清洗 | 選配 | ||
| 泵車 | 選配 | ||
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