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高束流射頻等離子體源

RFPS-200M射頻等離子體源使用13.56MHz射頻電源驅(qū)動,通過線圈式結(jié)構(gòu)激發(fā)產(chǎn)生等離子體,具有更好的穩(wěn)定性以及更精確的操控性。結(jié)構(gòu)更加緊湊,體積、功率較小,適合科研使用。


產(chǎn)品特點
● 高效穩(wěn)定的氮化物、氧化物、氫化物生長● 精確的操控性能,簡單易用● 內(nèi)有原子篩選孔,使帶電粒子盡可能少地到達襯底
● 可以根據(jù)需求更換引出端口● 適用于MBE外延、真空解理鍍膜、氫原子襯底清洗等系統(tǒng)



                                               
規(guī)格參數(shù)


安裝法蘭CF40
工作氣壓10-5 - 10-2mbar
最大功率300W
匹配器自動
裂解腔材質(zhì) PBN/石英
真空內(nèi)長度300mm
工作距離100 – 300 mm


標簽: 超高真空MBE
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