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MBE-1000 cluster 分子束外延系統(tǒng)

費(fèi)勉儀器推出了MBE-1000 Cluster分子束外延系統(tǒng),可進(jìn)行5×3'',4×4'',單片6'', 單片8''襯底外延生長。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)全自動傳樣和生長,非常適用于器件的批量生產(chǎn)。生長室采用雙溫區(qū)襯底加熱,實(shí)現(xiàn)生長溫度均勻可控。MBE-1000系統(tǒng)可定制10個蒸發(fā)源端口或12個蒸發(fā)源端口。

MBE-1000 Cluster全自動傳樣系統(tǒng)將不同腔體集成在圓形傳樣腔上,采用360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)的重載機(jī)械臂組件可進(jìn)行10英寸襯底托盤在進(jìn)樣室,預(yù)處理室,生長室和存儲腔之間傳遞。

根據(jù)客戶需求,費(fèi)勉儀器提供不同型號的熱蒸發(fā)源、裂解源、電子束蒸發(fā)源和氣體源。系統(tǒng)可安裝RHEED、BFM、RGA等,實(shí)現(xiàn)對薄膜生長的原位監(jiān)控。系統(tǒng)可以搭配費(fèi)勉儀器的MBE束流監(jiān)測光譜系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)可重復(fù)性和批量性的完全自動化生長。費(fèi)勉儀器提供MBE操作軟件,包括生長工藝程序編寫、自動生長控制和不間斷數(shù)據(jù)記錄三大功能,可以執(zhí)行生長工藝程序控制擋板運(yùn)動,源爐溫度,襯底溫度,襯底旋轉(zhuǎn)速度和方向??刂栖浖囟惹€,真空壓力曲線,電源輸出功率曲線,各系統(tǒng)間傳樣等工藝需求功能。


規(guī)格說明
配置MBE-1000 Cluster 分子束外延系統(tǒng)
生長室
腔體尺寸960mm I.D.
液氮冷屏標(biāo)配
襯底加熱器最高溫度
1000℃
襯底加熱器溫度穩(wěn)定性
±0.2℃
襯底最大尺寸
8inch
襯底最大旋轉(zhuǎn)速度
40RPM
蒸發(fā)源配置
12XCF150
獨(dú)立的蒸發(fā)源擋板電機(jī)驅(qū)動
烘烤溫度200
RHEED15~30keV
RGA0-200amu
預(yù)處理室預(yù)處理加熱器最高溫度
600℃
儲存室樣品停放臺
10個
進(jìn)樣室樣品停放臺10個
紅外烘烤箱選配
傳樣室
傳樣法蘭
矩形法蘭
機(jī)械臂伸縮距離
1300mm
MBE軟件GUIDE軟件標(biāo)配
選配出樣室
選配
CCD相機(jī)
選配
手套箱
選配
污染物回收系統(tǒng)選配
二級磷回收系統(tǒng)選配
真空照明系統(tǒng)選配
泵車選配
原子吸收光譜束流監(jiān)測系統(tǒng)AAFM-3
選配
襯底真實(shí)溫度監(jiān)控系統(tǒng)BTM-100選配


標(biāo)簽: 超高真空MBE
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